离子源广泛应用于光学真空镀膜、材料表面精细抛光与蚀刻等领域，在光学辅助镀膜离子源中，栅网板通常做成凸曲面形状，以获得在一定立体角中扩散形的离子束流，离子束截面的能量分布希望尽可能均衡，在被照射的工件表面希望各处轰击能量尽可能一致，栅网板的凸曲面形状，决定了离子束流的运行轨迹和空间角中离子束流截面的能量分布。

光学镀膜机中离子源栅网使用产生正离子，为了到达与中和器产生的负电子相中和的目的，离子源是由本体、栅网、石英碗，RF射频电源线组成，栅网由D、A、S三层网组成。由于栅网长时间工作过程中正离子不断生成轰击等，因此使用一段时间后需要拆下栅网进行清洁。

传统情况下会使用喷砂方式或化学清洗剂处理的方式。使用喷砂的方式处理对操作人员的处理手法要求极高，喷砂不均匀会导致栅网形变，同时也会产生作业粉尘；化学处理在浸泡处理栅网后，产生的化学废液也需要存放和处理，处理过后的栅网有可能会出现一定的表面侵蚀。

使用栅网激光自动清洗机可以均匀的去除栅网表面的膜层、氧化物，可重复性好且清洁效果一致性好，激光清洗的方式绿色无污染，不产生化学污染物和污染废气。将栅网安装在清洗架上后，操作设备触摸屏选取相应的栅网型号，即可进入自动清洗程序，自动化完成栅网表面膜层污染物的清洗。